光刻胶又称光致抗蚀剂，光刻胶经过曝光、显影和刻蚀等方式在每一层结构面上形成所需要的图案，在进行后一层处理时，需要将前一次使用后的光刻胶完全去除。

  光刻胶传统的去除方法是采用湿式方法去除，这样最终的结果就是清洗不彻底，容易引入杂质等等。

   在低温等离子清洗技术逐渐成熟时，晶圆光刻胶都会选择用这种干式清洗来进行处理，像金铂利莱的等离子清洗机就可以有效去除晶圆光刻胶和表面的有机物，不仅不会破坏原有的性能的同时还活化了晶圆表面，大大提高晶圆表面的亲水性，这样也使得晶圆的质量越来越高。

   等离子清洗机是利用等离子体的物理和化学特性，使得材料表面特性发生变化，从而提高材料表面的亲水性和粘接性等等，因此也被诸多行业应用。国内有很多等离子清洗机品牌，大家一定要货比三家，这里给大家推荐一下金铂利莱，它的最大的优点就是等离子清洗设备种类齐全，设备质量好，关键还在于售前售后服务都好！

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