随着科技的进步，等离子去胶机在现代工业上高速发展，原因也很简单，选择等离子去胶机是因为它操作简单、工作效率高、低成本、环保且去胶后表面光洁。下面是由金铂利莱小编为大家介绍等离子去胶机在使用中四大影响要素，希望能帮到大家。

一、    调整合适的频率：

频率越高，氧越易电离构成等离子体。频率太高，以致电子振幅比其平均自由程还短，则电子与气体分子磕碰概率反而减少，使电离率降低。通常常用频率为 13.56MHz及2.45GHZ 。

二、    调整合适功率：

关于必定量的气体，功率大，等离子体中的的活性粒子密度也大，去胶速度也快；但当功率增大到必定值，反响所能耗费的活性离子到达饱满，功率再大，去胶速度则无显着添加。由于功率大，基片温度高，所以应根据技术需求调理功率。

三、    调整适合的真空度：

恰当的真空度，可使电子运动的平均自由程变大，因而从电场取得的能量就大，有利电离。别的当氧气流量必守时，真空度越高，则氧的相对份额就大，发生的活性粒子浓度也就大。但若真空度过高，活性粒子浓度反而会减小。

四、    氧气流量的调整：

氧气流量大，活性粒子密度大，去胶速率加速；但流量太大，则离子的复合概率增大，电子运动的平均自由程缩短，电离强度反而降低。若反响室压力不变，流量增大，则被抽出的气体量也添加，其间尚没参与反响的活性粒子抽出量也随之添加， 因而流量添加对去胶速率的影响也就不甚显着。

以上便是金铂利莱等离子清洗机厂家为大家整理分享，是不是对等离子去胶机的使用有了更深入的了解，如果您还有什么疑问，欢迎您咨询。更多等离子去胶机的新资讯，欢迎您关注：http://www.gd-kimberlite.com